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自清潔聲屏障:光催化涂層技術(shù)的降噪與環(huán)保原理

來源:聲屏障http://www.szyuhui.cn/ | 發(fā)布時間:2025/9/16 | 瀏覽次數(shù):

   自清潔聲屏障光催化涂層技術(shù)主要基于納 米級光催化材料在光照條件下產(chǎn)生的強(qiáng)氧化性自 由基,能有 效分 解有 機(jī)污染物和殺滅微生物‌。該技術(shù)通過以下機(jī)制實現(xiàn)雙重功效:
   ‌降噪功能‌:特殊表面結(jié)構(gòu)設(shè)計可改變聲波反射路徑,多 維降噪聲屏障降噪效果達(dá)13分貝以上‌
‌   自清潔功能‌:光催化反應(yīng)分 解表面有 機(jī)物,保持涂層長期清潔‌。文章來源聲屏障http://www.szyuhui.cn/。‌

 

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